韓経：素材・部品・装備「半分の成功」…フォトレジストの日本依存依然９０％【中央日報日本語版】

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2020年07月01日

韓経：素材・部品・装備「半分の成功」…フォトレジストの日本依存依然９０％【中央日報日本語版】

カテゴリ：大本営発表

2020.6.30 中央日報日本語版
　昨年６月３０日に日本政府が半導体製造の核心素材である高純度フッ化水素とフォトレジスト（感光液）、ディスプレー工程用フルオリンポリイミドの韓国への輸出を規制することにしたという産経新聞の報道が出た。
　サムスン電子とＳＫハイニックスは規制施行の７月４日より前に少しでも多くの量を確保するため購買担当役員らを日本をはじめとする海外に急派した。
　在庫でしのげる期間は約２カ月だった。
　日本政府が同年８月にフォトレジストとフッ化水素輸出許可を出さなかったなら乗り越えられなかったというのが半導体業界関係者らの話だ。

　韓国政府は「国産化」を掲げて素材・部品・装備産業（素材・部品・装備）支援に出た。それから１年。
　一部成果はあった。
　日本製と対等な品質の液体フッ化水素を開発したのが代表的だ。
　だが極端紫外線（ＥＵＶ）露光工程用フォトレジストと超高純度の気体フッ化水素の国産化の知らせはまだない。
　「調達先を多角化すべきだが日本との協業を無条件で排除する必要はない」という指摘が産業界と学界から出る理由だ。
(中略)
　開発・製造が液体より難しい気体フッ化水素では話が変わる。
　ＳＫマテリアルズが１７日に純度９９．９９９％の製品を量産すると発表したが、業界では輸出規制以前に活用していた日本製製品よりも「純度が低い」という評価が出ている。
　業界関係者は「気体製品を作ったという点に対しては高く評価できるが、純度は低いのが事実。工程に正式に活用するためにテスト中」と説明した。

◇フォトレジスト国産化の道のりは遠い

　フッ化水素とともに輸出規制品目に含まれたＥＵＶ露光装備用フォトレジストの国産化は「さらに遅い状況」との評価が出ている。
　ＥＵＶ露光装備はサムスン電子が注力している５ナノメートル、１ナノメートル＝１０億分の１メートル）以下ナノプロセスに必須の製品だ。
　このためＥＵＶ露光装備用フォトレジストの調達が途絶えればサムスン電子が台湾ＴＳＭＣと繰り広げている競争を断念するほかない。

　東進（トンジン）セミケムなどがＥＵＶ用を開発中だが量産時期は未定だ。
　ＪＳＲ、信越化学工業など日本企業の製品を使い続けるほかない状況だ。
　貿易協会によると、日本の輸出規制後５月までの日本製輸入額は２億７４７４万３０００ドルで前年同期比３．５％増加した。
　このほかフレキシブル有機ＥＬに主に使われるフルオリンポリイミドと関連しても日本依存度は７４％だ。
　韓国企業は日本の住友化学の製品を依然として好んでいるという。(引用ここまで)

　もうすぐ日本の対韓輸出管理実施一周年になりますので、韓国メディアと一部日本メディアが様々な記事を書いています。
　もっとも大半の韓国側の記事は「大本営発表」で『輝かしい対日勝利』の内容で読むだけ損で、一番客観的な記事がこの記事です。

　とはいえ、フッ化水素の純度が99.999 VS 99.9999999999であることには全く触れていません。
　日本が誇る「twelve nine」に遠く及ばない「five nine」で日本に追いついた気分になっている方々には大変申し訳ありませんが、国産化には道半ばどころか、道二割といったところでしょうか。

　もっとも日本側は別に規制でもなんでもなくて、他国向けと同じように管理しているだけです。
　書類を出して許可が下りれば買えるわけで、今までのような不透明な用途での調達ができないだけです。

　まずは、そうした事実に目を背けずに現実を直視するところから始めないと、韓国メーカーの困難は今後も続いていくことでしょう。